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                             恒奧德真空鍍膜機操作使用步驟 

真空鍍膜機主要類需要在較真空度下行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

簡介
需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發鍍膜般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經歷成膜過程，終形成薄膜

使用步驟
電控柜操作
1. 開水泵、氣源。

2. 開總電源。

3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再入下步操作。約需5分鐘。

4. 開機械泵、預抽，開渦輪分子泵電源、并啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關預抽，開前泵和真空閥繼續抽真空，抽真空到達定程度后才能開右邊的真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能打開電子槍電源。

DEF-6B操作
1. 總電源。

2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水繼電器有故障，保護燈會常亮。

3. 開壓，壓會達到10KV以上，調節束可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電1.2A，偏轉電在1~1.7之間擺動。

關機順序
1. 關真空表頭、關分子泵。

2. 待分子泵顯示到50時，依次關閥、前、機械泵，這期間約需40分鐘。

3. 到50以下時，再關維持泵。